第三屆次世代電子國際研討會「The 3rd International Symposium on Next-Generation Electronics 2014，ISNE 2014」於 5 月 7 日至 10 日假本校國際會議廳舉行。本次會議有來自 11 個國家，385 篇論文投稿以及超過 450 人參與，為國內少數之大型國際研討會。

此會議先前已於中山大學與義守大學舉辦過兩屆會議，今年由本校主辦，並與國際電子電機工程師學會 ( IEEE ) 協辦，同時簽署相關合作協定 ( MOU )，本次特別延伸且擴大舉辦，以促進下一世代電子技術的研究與交流。

本次會議的主題除了原有五大領域外：「Design/CAD for Integrated Circuits and Systems」「Solid‐State Technologies and Devices」、「Opto‐electronics」、「Smart‐grid and Green Electronics」、「Information and Computing」，另外加入有關能源電子「Power Electronics」、高速電子「High Speed Materials and Devices」、高頻通信「High Frequency Electronics」、生醫電子「Bio‐medical Electronics」、記憶體「Memories」、軟性電子「Organic and Flexible Electronics」、透明電子「Transparent and Metal Oxide Electronics」、電漿子元件「Plasmonic and Nanophotonic Devices」、薄膜感測器「Thin Film Materials and Sensors」、元件模擬與模型「Device Simulation and Modeling」、三維晶片「3D ICs」及功能性材料與元件「Functional Materials and Devices」等共 18 個領域的研究討論與交流。為了吸引世界各國在電子電機、材料、物理、化學、與醫學等領域的研究者與會，大會特別邀請在這些領域學有專精 的專家學者舉行 151 場演講，包括 2 場短期課程、5 場大會演講、144 場邀請與口頭演講。此外，再分成 3 梯次共 264 篇壁報展示及口頭短報告。為了鼓勵學生參與，大會亦安排最佳學生論文競賽。

在 5 場大會演講部分，本次會議特別邀請在半導體領域極具份量的中央研究院院士薩支唐教授 ( Prof. C. T. Sah ) 前來演講，薩教授從事第一代矽基二極體、金氧半場效電晶體 ( MOS ) 和積體電路的製造研究，是半導體工業的先驅，也是諾貝爾獎的候選人之一。為了肯定薩教授在半導體領域上的成就，大會特別頒發卓越教育貢獻獎，另外，也邀請中研院應用科學研究中心蔡定平主任演講有關電漿子方面的研究、美國 NASA 研究中心的 Dr. Meyya Meyyappan 前來介紹奈米技術的未來發展。此外，大會也很榮幸地邀請到東京工業大學細野秀雄教授 ( Prof. Hideo Hosono ) 前來講述有關透明氧化物的發展，他是世界鐵基超導體的佼佼者、金屬氧化物薄膜電晶體的發明者，也是諾貝爾獎的候選人之一。最後，大會特別邀請林口長庚醫院外科部魏國珍副主任分享腦部藥物傳輸及分子標的之奈米醫學研究。本次會議的大會演講極為精彩，吸引了許多產學人士前來聆聽，也都獲得相當豐富的收穫。

綜觀本次次世代電子國際研討會，為本校工學院獨立舉辦之國際研討會，其之所以能夠吸引那麼多論文投稿與研究者參與，實在是仰賴國內外許多學者與研究機構的大力支持；當然，學校的 資源投入與協助也是本次大會能圓滿成功的重要關鍵。一個國際研討會的舉辦，可以大大地提升學校的國際能見度，也可以了解到學術研究與產業發展的脈動與趨勢，對於所有的與會者均具有相當大的助益與啟迪。